専門家による 
 コンサルティング 

研究機関・企業様の課題を私たちが解決いたします

こんな困りごと・課題はありませんか?

  • どの装置を使えばいいのかわからない
  • 結果に対しての問題点がわからない
  • 問題点を解決するアドバイスが欲しい
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半導体ドットコムTOKYOにお任せください!

お客様のお悩み・課題を解決に導きます

About

半導体ドットコムTOKYOとは?

事業内容


・半導体研究開発設備製作
・ステンレス配管施工
・ガス供給設備設計・製作
・半導体結晶成長
・各種シミュレーション
 (フロー解析、結晶成長シミュレーション、
        デバイスシミュレーション)
・結晶成長技術コンサルタント
 (主に、ワイドバンドギャップ化合物半導体)
・半導体デバイスプロセス技術コンサルタント
 (主に、窒化物半導体)
・各種結晶評価・分析
・結晶加工・研磨


半導体結晶・各種材料の評価をベースとしてます。
企業の要望に応じて専門家をマッチングいたします。
ご希望があれば、セミナーなどの手配を行います。
メールやチャット(LINE) 等で専門家(研究者)へお気軽に質問することができます。

まずはお気軽にご相談ください

Service

サービス紹介
専門家ご紹介
(マッチング)
  • 企業様のニーズに応じた専門家のご紹介
  • 學生の質問に簡潔にお答えします(LINEサービス)
 
総合コンサルティング
  • 専門家と投資家の問題の解決案をご提案いたします
  • 国内外を通じ情報の懸け橋となります
  • 法務機関と連携しスピーディーな問題解決をご提案いたします
技術指導
  • 半導体研究開発設備製作
  • ステンレス配管施工
  • ガス供給設備設計・製作
  • 結晶加工・研磨
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Member

コンサルタント紹介
某N大学准教授

長年、III族窒化物半導体、III族セスキ酸化物半導体のエピタキシャル成長技術の研究開発に従事。特に、HVPEをはじめとするバルク結晶成長、エピタキシャル成長を専門とし、大手基板製造企業数社へのコンサルティング業務経験あり。

コンサルティング可能な内容・各種半導体材料の気相成長技術

・GaN、AlN、InN、InGaN、AlGaNのHVPE/THVPE成長技術

・Ga2O3、Al2O3、およびそれらの混晶半導体

・その他、新規材料の原料探索シミュレーション

・反応管構造設計

・半導体製造プロセス

・結晶加工・研磨技術

・最適分析手法提案

得意分野
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某Y大学准教授
回窒化物半導体の結晶成長・デバイス作製の研究開発に10年以上の実績を持つ。特に、有機金属気相成長(MOVPE)による可視光~深紫外線領域のLED、AlGaN/GaN HEMT、AlNベースHEMTの結晶成長を得意とし、そのデバイスプロセス技術を有する。多種多様な面方位(金属面、N面、無極性面、半極性面)の経験も豊富。ハイドライド気相成長(HVPE)による超高品質GaN基板成長の経験があり、基板→結晶成長→デバイスプロセスの半導体デバイスに精通している。装置設計・結晶成長・デバイスプロセスコンサルティング業務経験あり。

 

コンサルティング可能な内容

・GaN、InGaN、AlN、AlGaNのMOVPE

・GaNのHVPE成長

・窒化物半導体ベースLED/LD、HEMTのデバイスシミュレーション

・LED、HEMTのデバイス評価(XRD、PL、各種電気的特性評価)

・MOVPE/HVPE装置設計

・LED、HEMTデバイス作製に関する各種プロセス装置(フォトリソグラフィー、EB蒸着、スパッタ、プラズマCVD、反応性イオンエッチング、各種薬品処理、透明電極(ITO)、高速アニール装置)

得意分野
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Flow

サービス導入の流れ
Step.1
ご相談の予約
問い合わせフォームよりご相談、または、お電話ください
Step.2
お打ち合わせ(ヒアリング)
基本はオンライン(ZOOMやGooglemeet)で行います。ご希望がございましたら、対面でのお打ち合わせにも対応いたします。
Step.3
ご契約
契約書を取り交わします
Step.4
専門家のご紹介・ご提案
(セミナーやお打ち合わせのセッティング)
ご希望に沿ったご提案やご報告、セミナーを行います
Step.1
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